芯片制程越先进，对杂质的容忍度就越低。

当检测要求从 ppm（百万分之一）、ppt（万亿分之一）继续向更低浓度推进，超痕量金属检测能力，正成为高端制造中的关键一环。

2026年，聚光科技自主孵化子公司谱育科技正式推出EXPEC 7350S Plus系列三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS/MS）。

谱育科技三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS/MS）核心亮点

该产品依托成熟ICP-MS技术平台，面向半导体及高端制造场景完成专项升级。

在关键硬件与软件体系自主可控的基础上，实现sub-ppt级（十万亿分之一）超痕量检测能力。

可服务于12英寸晶圆先进制程相关表面金属离子检测等应用场景，为半导体及高端制造领域提供更自主、更可靠的检测解决方案。

良率的“隐形杀手”

金属杂质必须被看见

半导体制造中，金属杂质直接影响良率。

随着集成电路持续迈向先进制程，对残留金属杂质控制水平的要求不断提高，相关检测能力已下探至sub-ppt级（十万亿分之一），部分场景甚至达到ppq级（千万亿分之一）。

检测能力不足，可能导致批量晶圆良率下降。长期以来，相关高端检测设备市场主要由海外厂商主导。

EXPEC 7350S Plus的推出，体现了国产仪器在超痕量检测领域的进一步突破。

EXPEC 7350S Plus 不是简单性能叠加，而是围绕半导体超痕量检测场景，对自主可控、检测灵敏度、产线适配、定制响应四项能力进行深度升级。

全自主可控：核心软硬件自研，安全更有保障

• 降低对国外供应链与技术体系的依赖

• 围绕核心部件、关键零部件及软件体系实现自主开发，软件源代码自主编写

• 配备智能水气防漏报警系统，实时监测运行参数，异常时自动预警并保护设备

进一步保障设备运行安全、实验环境安全与数据安全，提升设备在关键行业场景中的稳定应用能力。

sub-ppt级灵敏度：在十万亿分之一中精准“捕获”金属杂质

• 搭载自主研发的多次偏转离子传输系统、双提取透镜与新一代离子接口

  
  

• 实现sub-ppt级超低检出限，在超痕量检测等关键性能指标上具备国际同类产品竞争力

可服务于12英寸晶圆先进制程相关表面金属离子检测场景，有助于支撑良率提升。

VPD全自动联用：从实验室到产线，检测流程无缝衔接

• 支持与国内外全自动VPD系统（气相分解系统）一体化联用

• 适配不同尺寸晶圆（8 英寸、12 英寸）及多种衬底材料（硅、碳化硅等）

• 提供定制化自动化检测方案，实现“取样 → 前处理 → 检测 → 报告”全流程自动化
  
  

降低人为误差，提升检测通量，帮助客户从实验室检测向自动化、高通量检测流程升级，更好匹配量产节奏。

敏捷响应本土需求：更贴近国内应用场景

• 更好适配国产化替代需求，持续提升落地效率

• 依托自主研发实力，快速响应不同行业用户的实际应用需求

• 更贴合本土应用场景，提供个性化合作分析方案
  

缩短问题响应周期，满足国内产线快速的技术迭代与定制化需求。

用在哪里

半导体、高纯材料、高端制造

半导体/电子：12英寸晶圆表面金属离子分析、碳化硅片检测

高纯材料：超纯湿电子化学品、电子特气、高纯金属溅射靶材纯度分析

其他领域：各类超痕量元素分析及相关工业检测场景

不止于检测

国产高端仪器的使命与进阶

当半导体制造持续迈向更先进工艺，分析检测设备早已不只是实验室工具，更是先进制造体系的重要支撑。

从关键硬件与软件体系自主开发，到sub-ppt级超痕量检测能力提升，再到面向VPD联用与产线流程的深度适配。

EXPEC 7350S Plus系列三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS/MS），体现了国产高端科学仪器在半导体关键检测场景中的持续进阶。

聚光科技将持续深耕高端分析检测技术，依托ICP-MS系列的技术积累与产业化经验，为半导体及高端制造等领域提供更可靠、更自主、更高效的分析检测解决方案。